詳細摘要： 易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。
產品型號：所在地：廣州市更新時間：2024-12-16 在線留言注塑機 擠出機 造粒機 吹膜機 吹塑機 吹瓶機 成型機 吸塑機 滾塑機 管材生產線 板材生產線 型材生產線 片材生產線 發泡設備 塑料壓延機
廣州文明機電有限公司
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詳細摘要： 易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。
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詳細摘要： JMS-S3000采用日本電子獨自研發的SpiralTOF模式離子光學系統，它創新的技術在學術界已廣為人知，其超高的質量分辨率和質量準確度，于傳統的裝置。
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詳細摘要： JMS-MT3010HRGA采用的Multi-Turn技術，在只有20cm見方的質量分析器內，離子的最長飛行距離高達200ｍ。
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詳細摘要： MS-800D UltraFOCUS™ 是進行超低濃度分析的，采用高分辨選擇離子監測模式（HRSIM）適合二惡英及相關化合物如:二惡英、多氯聯苯(P...
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詳細摘要： JMS-700高分辨質譜儀全部采用電腦控制，離子源和各種參數具有自動調諧功能，不僅是常規測試，利用高分辨測試等所有模式都能容易地獲得高質量的分析結果。
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詳細摘要： 軟X射線分析譜儀(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通過組合新開發的衍射光柵和高靈敏度Ｘ射線CCD相機，實現了的能量...
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詳細摘要： JSX-1000S型X射線熒光光譜儀采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規定性、定量分析（FP法?檢量線法）、RoHS元素篩選功能等。 利用豐富...
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詳細摘要： IB-19520CCP在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢...
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詳細摘要： 為了滿足市場多樣化的需求，IB-19530CP截面拋光儀采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。
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詳細摘要： 通過高頻感應加熱產生大約1萬度的熱等離子體，經過物理/化學反應過程，能合成納米顆粒及厚膜(鍍膜)
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詳細摘要： JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續、高速率地鍍膜，還可應用于電子束熔煉，用于高...
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詳細摘要： 以電子束為熱源使用各種熔解用坩堝，對高融點活性金屬進行熔解/精煉、制備鑄錠的電子束熔煉爐。 適合研究開發及少量生產、省空間設計的小型熔煉爐。 可按照用途選擇坩堝...
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詳細摘要： TEM斷層掃描系統采用算法的軟件，實現了從獲取連續傾斜圖像到三維重構整個過程的自動化。
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詳細摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析"為基本理念的TEM/EDS集成系統。在分析數據過程中，自動采集電鏡主機的倍率、加速電壓等...
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詳細摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具高水平的產出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...
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詳細摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統，通過的設計優化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節能。
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詳細摘要： JBX-6300FS的電子光學系統在100kV的加速電壓下能自動調整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達5nm）的圖形。 ...
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詳細摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 的技術實現了高速、高精度和...
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詳細摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 zei的技術實現了高速、高精...
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